法律依据:《集成电路布图设计保护条例2001年》
第二条 本条例下列用语的含义:
(一)集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;
(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置;
(三)商业利用,是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。
第四条 受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。
第七条 布图设计权利人享有下列专有权:
(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;
(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。
第八条 布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受本条例保护。
申请布图设计登记,应当提交:
(一)布图设计登记申请表;
(二)布图设计的复制件或者图样;
(三)布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品;
(四)国务院知识产权行政部门规定的其他材料;
(五)委托代理机构的,还需提交代理委托书。